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上海跡亞國際商貿(mào)有限公司是跡亞國際集團(tuán)位于中國上海的子公司。跡亞國際集團(tuán)其總部位于新加坡,其他子公司分布于馬來西亞,印度尼西亞和緬甸。我們的團(tuán)隊經(jīng)驗豐富,技術(shù)力量強(qiáng)大,為大學(xué),科研機(jī)構(gòu)和工業(yè)企業(yè)等提供了實驗室設(shè)備和工程設(shè)備,具有引導(dǎo)潮流的實力。我們提供的pointed end技術(shù)和設(shè)備,都被國內(nèi)主要機(jī)構(gòu)接受認(rèn)可。 我們的產(chǎn)品broad用于生命科學(xué):3D細(xì)胞培養(yǎng)、類organ培養(yǎng)等;組織工程:3D生物打印、生物芯片、微流控芯片、organ芯片等;材料科學(xué):半導(dǎo)體鍍膜機(jī)、旋涂儀、光刻機(jī)、光刻顯影設(shè)備等;新能源:超聲波鍍膜儀、攪拌去泡機(jī)等;植物分析:植物3D掃描儀等;實驗室工程:高稀釋射流風(fēng)機(jī)、快速響應(yīng)precise調(diào)控變風(fēng)量閥門等;

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陜西PSP光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸 歡迎咨詢 上海跡亞國際商貿(mào)供應(yīng)

2025-08-09 09:21:46

德國 Polos 光刻機(jī)系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備。其無掩模激光光刻技術(shù),讓電路圖案曝光不再受限于掩模,能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制。在芯片研發(fā)過程中,Polos 光刻機(jī)可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),為芯片性能提升奠定基礎(chǔ)。? 科研團(tuán)隊使用 Polos 光刻機(jī),成功開發(fā)出更高效的集成電路,降低芯片能耗,提高運算速度。而且,該光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案,滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計需求。無論是新型傳感器的電路制作,還是微型處理器的研發(fā),Polos 光刻機(jī)都能以高精度、低成本的優(yōu)勢,為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障,推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。POLOS ? 光刻機(jī):微型化機(jī)身,納米級曝光精度,微流體芯片制備周期縮短 40%。陜西PSP光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

某能源研究團(tuán)隊采用 Polos 光刻機(jī)制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術(shù)在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉(zhuǎn)換效率達(dá) 35%,在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm? 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動,在智能穿戴設(shè)備中實現(xiàn)了運動能量的實時采集與存儲。其輕量化設(shè)計(體積 < 1mm?)還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點,使傳感器續(xù)航時間從 3 個月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會。陜西PSP光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸未來技術(shù)儲備:持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。

無掩模激光光刻:科研效率的revolution性提升!Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù),用戶可通過軟件直接輸入任意圖案,省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時間。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率(most小線寬0.8 ?m)支持5英寸晶圓的高精度加工,特別適合實驗室快速原型開發(fā)。閉環(huán)自動對焦系統(tǒng)(1秒完成)和半自動多層對準(zhǔn)功能,remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性。例如,其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,多層曝光疊加功能簡化了射頻器件(如IDC電容器)的制造流程。研究團(tuán)隊利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件,驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。材料科學(xué):超疏水表面納米圖案化,接觸角 165°,防腐蝕性能增強(qiáng) 10 倍。

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和**公司提供了利用其功能的機(jī)會。圖案靈活性:支持 STL 模型直接導(dǎo)入,30 分鐘完成從設(shè)計到曝光全流程。陜西PSP光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

多材料兼容:金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成傳感器一步成型。陜西PSP光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

德國 Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計,在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對于研究實驗室,尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來說,設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點,使其能夠輕松融入各類實驗室環(huán)境。? 盡管體積小巧,但它的性能卻毫不遜色。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻。在小型實驗室中,科研人員使用 Polos 光刻機(jī),在微流體、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究,成功取得多項成果。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量,為科研創(chuàng)新提供有力支持。陜西PSP光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

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